【編號】2017-59
　　【題名】靶材成分對磁控濺射PTFE超疏水薄膜的影響
　　【作者】任芝龍,肖嬌玉,黃佳木等
　　【機構】重慶大學材料科學與工程學院
　　【刊名】表面技術（2017年9期）
　　【文摘】目的 了解靶材成分對磁控濺射PTFE薄膜性能的影響,以提升PTFE薄膜疏水性能.方法 采用射頻磁控濺射技術,在玻璃基片上一步制備了透明超疏水聚四氟乙烯薄膜,并研究了不同PTFE靶材對薄膜的影響.利用X射線光電子能譜儀(XPS)、接觸角測試儀(Drop Meter)、紫外-可見分光光度計(UV-Vis)分別對靶材和薄膜的性能進行研究.結果 兩靶材的氟碳官能團含量有明顯差異,且靶材1含有CF2O,靶材2中不含.靶材的成分影響了PTFE的濺射率,靶材1的濺射率為靶材2的2倍.相同濺射時間下,靶材不同的薄膜厚度不同,從而表現出不同的靜態水接觸角.薄膜的疏水性能與薄膜厚度呈現指數關系,最終穩定在170°水接觸角平臺.同時,濺射過程中,F離子刻蝕到玻璃基底而引入了NaF,但薄膜中NaF和氟碳基團的含量與靶材成分相關.薄膜中NaF的存在,提升了薄膜的F/C比,降低了薄膜表面能,提升了其疏水性能,但降低了薄膜的可見光透過率.結論 一步制備透明超疏水聚四氟乙烯薄膜的技術具有廣泛應用前景,了解靶材成分對薄膜性能的影響具有重要指導意義.