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              專利發明

              2008年氟塑料專利匯編

              一種聚偏氟乙烯納米復合超低壓超濾膜及其制備方法

              【編號】2008-45

              【名稱】一種聚偏氟乙烯納米復合超低壓超濾膜及其制備方法

              【摘要】一種聚偏氟乙烯納米復合超低壓超濾膜及其制備方法,它涉及一種納米復合膜及其制備方法。本發明解決了現有PVDF膜材料親水性差、表面能低、易污染、運行費用高及現有的改性方法存在難以在超低壓<0.05MPa下運行等缺陷的問題。本發明產品由20~150份的PVDF、0.1~20份的納米粉體、10~1000 份的分散介質、10~50份的有機添加劑和0.1~30份無機添加劑制成。本發明將納米粉體、無機添加劑、有機添加劑、PVDF依次加入到分散介質中溶解3~48 小時,靜置脫泡5~24小時,制成鑄膜液;可制成平板膜、管式膜或中空纖維膜及相應的膜組件。本發明具有改變復合膜的親水性,能有效地解決現有膜污染問題,提高水通量和截留率,延長清洗周期,提高處理能力,實現大規模應用和超低壓運行的特點。


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