【編號】2011-16
　　【名稱】采用電弧離子鍍技術在聚四氟乙烯表面鍍導電薄膜的方法
　　【申請(專利權)人】中國航天科技集團公司第五研究院第五一○研究所
　　【公開(公告)日】2011.02.02
　　【公開(公告)號】CN101962748A
　　【摘要】本發明涉及采用電弧離子鍍技術在聚四氟乙烯表面鍍導電薄膜的方法，屬于表面工程技術領域。利用電弧離子鍍技術，依次采用加熱工件、離子束清洗和鍍過渡層的方法，在聚四氟乙烯表面鍍導電薄膜，將聚四氟乙烯工件放入到真空室內，加熱；導入Ar和O2的混合氣體；打開離子源對聚四氟乙烯工件進行離子束清洗；關閉離子源和供氣系統，打開Cr或NiCr電弧源，鍍Cr或NiCr過渡層；關閉Cr或NiCr電弧源；加脈沖偏壓，打開Al、Cu或Au電弧源，鍍Al、Cu或Au導電薄膜。本發明在聚四氟乙烯表面鍍金屬導電薄膜具有薄膜致密、附著牢固、厚度均勻可控和可以實現復雜曲面工件鍍膜等優點，達到了工程應用水平。