【編號】2015-93
　　【名稱】一種低表面光澤度聚偏氟乙烯薄膜及其制備方法
　　【公開（公告）號】CN104893188A
　　【公開（公告）日期】2015.09.09
　　【申請（專利權）人】杭州福膜新材料科技有限公司 
　　【摘要】本發明涉及一種低表面光澤度聚偏氟乙烯薄膜及其制備方法，屬于太陽能光伏電池應用領域。一種低表面光澤度聚偏氟乙烯薄膜，其是由如下按重量份計的組分混合后流涎或吹膜而成：聚偏氟乙烯59.9～69.4份，消光劑1～10份，加工助劑0.5～5份，無機填料0～5份，增韌改性劑10～20份。本發明配方中的消光劑降低了薄膜的表面光澤度，使得制備的薄膜表面光澤度低于30。加工助劑改善聚偏氟乙烯的流動性，易于進行熔融擠出和薄膜成型；增韌改性劑有利于薄膜保持良好的韌性。本發明制備的聚偏氟乙烯薄膜具有優良的機械性能、低表面光澤度、高耐候性以及高水、汽阻隔性等優點。