【編號】2020-31
　　【名稱】一種PVDF基復合薄膜及其制備方法
      【公開（公告）號】CN111040212A
　　【公開（公告）日期】2020.04.21
　　【申請（專利權）人】南京航空航天大學
       【摘要】本發明公開了一種PVDF基復合薄膜及其制備方法，涉及電介質領域，能夠提高復合薄膜的擊穿強度和儲能密度。本發明采用層層自組裝技術形成多層有序的三明治結構，各個異質功能層分別以高介電的P(VDF?TrFE?CTFE)為三明治結構的頂層和底層，然后利用低介電、高擊穿場強的交聯化不飽和P(VDF?CTFE?DB)為三明治結構的中間層。頂部和底部的高介電P(VDF?TrFE?CTFE)能為復合薄膜提供較大的電位移，中間層的交聯結構能有效抑制薄膜在高電場下電荷的聚集，將異質層界面電場重新進行分配，并且阻礙電樹枝的進一步發展，提高復合薄膜的擊穿強度。同時，本發明制備工藝簡單，在實現高儲能性能的同時也避免了一些制備工藝復雜、高成本的無機納米材料的使用，且最大限度保持了薄膜的柔軟性和耐久性。